牙材part3 牙科聚合物與黏著材料114-1 年 第120題
關於義齒基底樹脂的過敏或毒性說明，下列敘述何者錯誤？
A.過敏反應通常由殘餘單體（residual monomer）所造成
B.可以由浸泡水中達 17 小時來減少殘餘單體（residual monomer）
C.殘餘單體（residual monomer）在血液中的半衰期約 20～40 小時✓ 正解
D.操作者的接觸性皮膚炎也是對基底樹脂的一種過敏反應
關於義齒基底樹脂的過敏或毒性說明，下列敘述何者錯誤？
殘餘單體的代謝半衰期遠短於題目所述，這是判斷本題的關鍵。體內代謝速度越快，表示該物質越容易被清除，這與過敏反應的持續程度有重要關係。 **A.** 正確。義齒基底樹脂（PMMA）的過敏反應主要由未反應的殘餘單體（甲基丙烯酸甲酯）所引起，這些單體會滲出並誘發組織過敏反應。 **B.** 正確。將義齒浸泡在蒸餾水或生理食鹽水中17小時以上，可以有效溶解並去除大量殘餘單體，是臨床上減少過敏反應的重要方法。 **C.** 錯誤。殘餘單體在血液中的半衰期約為**2～4小時**，而非20～40小時。實際上代謝速度遠快於選項所述，這表示單體會較快被清除出體外。 **D.** 正確。操作者在製作義齒過程中，長期接觸未聚合的樹脂單體液體，可發生接觸性皮膚炎，屬於職業性過敏反應，需做好防護措施。
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