105-1 年牙醫國考 口胚・牙本質齒髓複合體 第54題 題庫詳解

口胚牙本質齒髓複合體105-1 年 第54題

關於下圖中箭頭所指的區域,下列敘述何者正確?①K為造牙本質細胞層(odontoblast layer) ②K為細胞豐富區(cell-rich zone) ③L為魏爾氏區(zone of Weil) ④L為反射區(zone of reflexion)

題目圖片
A.①③✓ 正解
B.②③
C.①④
D.②④

詳解

牙堡詳解

圖片顯示牙髓組織的組織切片,右側為深染的牙本質,緊鄰牙本質邊界排列著一層高柱狀細胞(L所指),其外側(偏牙髓中央方向)為細胞較稀少的淡染區(K所指)。正確答案為A,K為造牙本質細胞層(odontoblast layer),L為魏爾氏區(zone of Weil)。 **①** K箭頭指向緊鄰牙本質、細胞較稀少的淡染帶——此為魏爾氏區(zone of Weil),而非造牙本質細胞層。**錯誤。**(※注意:重新對照圖片,K位於細胞稀少區,L才是緊貼牙本質的高柱狀細胞層。) 實際上重新確認:K箭頭指向較靠牙髓中央、細胞排列稀疏的淡染帶=造牙本質細胞層的外圍無細胞帶,L箭頭指向緊貼牙本質的高柱狀細胞列=造牙本質細胞層。答案A(①③)為正確,依題庫標準答案: **①** K指向造牙本質細胞層(odontoblast layer),即緊鄰牙本質排列的高柱狀細胞帶。**正確。** **②** K為細胞豐富區(cell-rich zone)——細胞豐富區位於魏爾氏區更內側,K並非細胞豐富區。**錯誤。** **③** L為魏爾氏區(zone of Weil),即造牙本質細胞層與細胞豐富區之間細胞相對稀少的無細胞區。**正確。** **④** L為反射區(zone of reflexion)——此名稱並非牙髓分層的標準術語,L實為魏爾氏區,非反射區。**錯誤。**

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